三星电子斥巨资引进High-NA EUV光刻机
三星电子宣布一项重大投资计划，将投入约 1.1 万亿韩元引进两台最新的 High-NA 双级极紫外 (EUV) 光刻机。三星电子此前仅在京畿道园区部署过一台 High-NA EUV设备，且主要用于研发环节。此次引进的两台设备则聚焦 “产品量产”，是该企业首次将此类先进设备应用于量产场景。按照规划，三星电子将于今年内完成第一台设备的引进工作，明年上半年再引进第二台，逐步完善量产设备布局。此次三星电子计划引进的设备为Twin Scan EXE:5200B，该设备属于 0.55 数值孔径（NA）的 High-NA 极紫外光刻系统，是TWINSCAN EXE:5000的升级版本。
—— 环球网
三星电子宣布一项重大投资计划，将投入约 1.1 万亿韩元引进两台最新的 High-NA 双级极紫外 (EUV) 光刻机。三星电子此前仅在京畿道园区部署过一台 High-NA EUV设备，且主要用于研发环节。此次引进的两台设备则聚焦 “产品量产”，是该企业首次将此类先进设备应用于量产场景。按照规划，三星电子将于今年内完成第一台设备的引进工作，明年上半年再引进第二台，逐步完善量产设备布局。此次三星电子计划引进的设备为Twin Scan EXE:5200B，该设备属于 0.55 数值孔径（NA）的 High-NA 极紫外光刻系统，是TWINSCAN EXE:5000的升级版本。
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