上海芯上微装首台350nm步进光刻机发运
上海芯上微装昨日宣布公司自主研发的首台350nm步进光刻机(AST6200)正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场。芯上微装表示，这标志着中国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破。AST6200光刻机是芯上微装的步进式光刻设备，专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景量身定制。高分辨率成像满足先进工艺需求，搭载大数值孔径投影物镜，结合多种照明模式与可变光瞳技术，实现350nm高分辨率，满足当前主流化合物半导体芯片的光刻工艺要求。高精度套刻配置高精度对准系统，实现正面套刻 80nm，背面套刻 500nm，确保多层图形精准套刻，提升器件良率。
—— 上海芯上微装
上海芯上微装昨日宣布公司自主研发的首台350nm步进光刻机(AST6200)正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场。芯上微装表示，这标志着中国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破。AST6200光刻机是芯上微装的步进式光刻设备，专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景量身定制。高分辨率成像满足先进工艺需求，搭载大数值孔径投影物镜，结合多种照明模式与可变光瞳技术，实现350nm高分辨率，满足当前主流化合物半导体芯片的光刻工艺要求。高精度套刻配置高精度对准系统，实现正面套刻 80nm，背面套刻 500nm，确保多层图形精准套刻，提升器件良率。
—— 上海芯上微装