美国再关切ASML EUV光刻机恐流入中国

美国再关切ASML EUV光刻机恐流入中国

知情人士透露,美国商务部长卢特尼克已在近来的一连串会议中,向荷兰芯片设备巨头阿斯麦 (ASML)高管表达关切,担心ASML的极紫外光(EUV)光刻机可能已流入中国大陆,违反美国主导的出口管制。ASML则否认这个说法。卢特尼克向ASML高管针对该公司的EUV光刻机表达关切,在一场涵盖一系列议题的会议上,提出了这个问题。对此,ASML则已反驳卢特尼克的说法,表示完全没有任何一台EUV在中国大陆。 EUV尺寸相当于一辆校车、产量有限,且需要公司员工持续维护,由于美国政府主导的出口管制,ASML不得出口EUV系统到中国大陆。

—— 台湾经济日报彭博社

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